高精度單成分硫酸濃度計(jì)FUD-1 Model-130

富士工業(yè)高精度單成分硫酸濃度計(jì) FUD-1 Model-130 CMP用/汎用薬液用

超聲波液體濃度計(jì)

FUD-1Model-130系列CMP用

測量原理

超聲波在液體中非常易于傳播

超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響

「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」

本產(chǎn)品利用超聲波的特性，高精度的測量溶液的濃度

測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

單組分密度計(jì)的特點(diǎn)

Model-130是一個(gè)概念模型，強(qiáng)調(diào)了所測量濃度的穩(wěn)定性

在需要高精度和高穩(wěn)定性密度計(jì)側(cè)的半導(dǎo)體制造過程中非常有效

可以高精度連續(xù)測量

免維護(hù)，無需定期調(diào)整/校準(zhǔn)

易于安裝，因?yàn)樵诎惭b過程中無需進(jìn)行任何調(diào)整

通過實(shí)時(shí)輸出輕松反饋到過程

單成分濃度計(jì)的特點(diǎn)

Model-130是重視測量濃度穩(wěn)定性的概念模型

半導(dǎo)體制造工序等的高精度·高穩(wěn)定濃度計(jì)方面被認(rèn)為是必要的

優(yōu)點(diǎn)

高精度連續(xù)計(jì)測可能

無需定期調(diào)整、校對，無需維護(hù)

設(shè)置時(shí)的各種調(diào)整等不需要也容易設(shè)置

由于實(shí)時(shí)輸出反饋也容易

用途

在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等

稀釋工程的各種藥液濃度管理等（H2O2·TMAH·HNO3·H2SO4·HCI等）

在清洗過程中的清洗液濃度管理等（HF·NH4OH·KOH·PA等）

蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等（HF·H2S04等）

富士工業(yè) 高精度單成分硫酸濃度計(jì) FUD-1 Model-130 CMP用/汎用薬液用

高精度單成分硫酸濃度計(jì)FUD-1 Model-130